优造节能快速热退火设备是什么原理，快速热退火又能起到什么作用呢，接下来为大家讲解一下关于退火的原理，快速热退火设备也即是让一些高温的材料快速降温，达到材料成型的作用，所以，这个退火设备在很多工厂都是必不可少的设备。

快速热退火设备

　　快速热退火技术介绍：

　　优造节能快速热退火 (RTA)技术指的是将晶片，从环境温度快速加热至约1000–1500K，晶片达到该温度后会保持几秒钟，然后完成淬火。这种技术主要被应用于薄膜晶体管、太阳电池等器件生产过程中的掺杂、点缺陷退火、杂质激活等高温( >700 ℃)过程。在低温器件，如玻璃衬底的多晶硅薄膜太阳电池应用中也具有很大的潜力 。

　　固相晶化非晶硅(a- S i)薄膜法是一种最常见的间接制备多晶硅薄膜方法 。这种技术的优点是能实现薄膜大面积化，且工艺简单 。但传统的电热炉退火进行固相晶化时，晶化时间长达几个至几十个小时，耗能及制造成本高 。而采用 RTA，在较高温度下几分钟内就可使非晶硅晶化，而且晶化后的多晶硅膜缺陷较少、内应力小。

快速热退火设备

　　快速热退火设备：

　　快速热退火 (RTA)技术指的是将晶片从环境温度快速加热至约1000–1500K，晶片达到该温度后会保持几秒钟，然后完成淬火。这种技术主要被应用于薄膜晶体管、太阳电池等器件生产过程中的掺杂、点缺陷退火、杂质激活等高温( >700 ℃)过程。在低温器件，如玻璃衬底的多晶硅薄膜太阳电池应用中也具有很大的潜力 。

　　固相晶化非晶硅(a- S i)薄膜法是一种最常见的间接制备多晶硅薄膜方法 。这种技术的优点是能实现薄膜大面积化，且工艺简单 。但传统的电热炉退火进行固相晶化时，晶化时间长达几个至几十个小时，耗能及制造成本高 。而采用 RTA，在较高温度下几分钟内就可使非晶硅晶化，而且晶化后的多晶硅膜缺陷较少、内应力小。

　　在某些领域快速热退火设备是必不可少，不仅可以快速提高产品的质量，而且能让退火时间降到最低，这样产品的产量也就上去了。